硅化物涂层特性的蒸发过程
日期:[2022-2-21 9:02:44]   共阅[783]次
  硅化物涂层是研究很充分的涂层系统之一,这种涂层主要是二硅化钼MoSi2,它氧化形成二氧化硅玻璃,SiO2如上所述,起氧的扩散阻挡层的作用。MoSi2在机械性能上与钼和SiO2二者都是一致的,并且能很快地氧化形成防护性硅化物高温防氧化涂层。在一大气压的氧气或空气中温度在1700°C以下,这种防护性涂层稳定和有效达数小时,在低的氧气压力下温度在1700°C以上,则发生会导致涂层破坏的蒸发过程。
  接下来为大家介绍硅化物涂层特性的蒸发过程:
  1.在形成氧化物阻挡层前,硅化物本身在真空或惰性气氛中蒸发;
  2.防护性SiO2层的单纯蒸发;
  3.在硅化物-氧化物界面,处硅化物和SiO2之间,反应形成气态的SiO(气);
  4.硅化物表面由于氧的供应不足,不能完全形成防护性SiO2(晶)层。
  每一种蒸发过程都将联系MoSi2具体地加以讨论,然后再推广到其它硅化物高温防氧化涂层系统。
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